Szczegóły publikacji
Opis bibliograficzny
Proces rozpylania techniką magnetronową w atmosferze dwóch gazów reaktywnych — Process of magnetron sputtering an atmosphere with two reactive gasses / Andrzej BRUDNIK, Katarzyna ZAKRZEWSKA // Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania (Warszawa) ; ISSN 0033-2089. — Tytuł poprz.: Przegląd Elektroniki. — 2014 — R. 55 nr 10, s. 34–36. — Bibliogr. s. 36, Streszcz., Summ. — TJ&nanoIP 2014 : XIII ogólnopolskie seminarium Techniki Jonowe połączone z III zimową szkołą Nanoinżynieria Powierzchni : 5–8 marca 2014, Szklarska Poręba
Autorzy (2)
Słowa kluczowe
Dane bibliometryczne
| ID BaDAP | 85876 |
|---|---|
| Data dodania do BaDAP | 2014-11-27 |
| DOI | 10.15199/ELE-2014-166 |
| Rok publikacji | 2014 |
| Typ publikacji | referat w czasopiśmie |
| Otwarty dostęp |  |
| Czasopismo/seria | Elektronika : Konstrukcje, Technologie, Zastosowania |
Streszczenie
W pracy przedstawiono opis zjawiska rozpylania tarczy tytanowej w atmosferze zawierającej dwa różne gazy reaktywne (azot, tlen). Analizę procesu przeprowadzono w oparciu o model procesu reaktywnego rozpylania bazujący na zmianie współczynników wydajności rozpylania tarczy, której powierzchnia jest częściowo metaliczna, a częściowo pokryta warstwą związków chemicznych (tlenków, azotków).
Abstract
This work presents description of sputtering of Ti target in gas atmosphere containing two reactive components (nitrogen, oxygen). Analysis of the process is performed on the basic of the model that assumes the changes in the yield of deposition of the metallic target partially covered with chemical compounds (oxides, nitrides).
