Szczegóły publikacji
Opis bibliograficzny
Kontrola procesu reaktywnego rozpylania magnetronowego – analiza modelu — Control of reactive magnetron sputtering – model analysis / Andrzej BRUDNIK // Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania (Warszawa) ; ISSN 0033-2089. — Tytuł poprz.: Przegląd Elektroniki. — 2011 — R. 52 nr 8, s. 72–74. — Bibliogr. s. 74, Streszcz., Summ. — IX Konferencja Techniki Próżni i Workshop on Field Emission from Carbonaceous Materials : Cedzyna, 6–9 czerwca 2011
Autor
Dane bibliometryczne
| ID BaDAP | 61764 |
|---|---|
| Data dodania do BaDAP | 2011-10-27 |
| Rok publikacji | 2011 |
| Typ publikacji | referat w czasopiśmie |
| Otwarty dostęp |  |
| Czasopismo/seria | Elektronika : Konstrukcje, Technologie, Zastosowania |
Abstract
In the present work, the model of reactive magnetron sputtering was discussed, related to sputtering Al and Ti targets in argon-nitrogen atmosphere.
Streszczenie
W pracy przedstawiono zagadnienia związane z wyborem metody stabilizacji procesu reaktywnego rozpylania magnetronowego. W oparciu o model procesu przeanalizowano zmiany napięcia katody i zmiany natężenia linii widmowych dla tarcz Al i Ti rozpylanych w atmosferze argon-azot.
