Szczegóły publikacji

Opis bibliograficzny

Metody kontroli procesu reaktywnego rozpylania magnetronowego — [Monitoring of reactive magnetron sputtering] / Andrzej BRUDNIK, Halina CZTERNASTEK, Mieczysław JACHIMOWSKI // Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania (Warszawa) ; ISSN 0033-2089. — Tytuł poprz.: Przegląd Elektroniki. — 1995 — nr 9, s. 16–17. — Bibliogr. s. 17

Autorzy (3)

Dane bibliometryczne

ID BaDAP57018
Data dodania do BaDAP2011-02-15
Rok publikacji1995
Typ publikacjiartykuł w czasopiśmie
Otwarty dostęptak
Czasopismo/seriaElektronika : Konstrukcje, Technologie, Zastosowania

Publikacje, które mogą Cię zainteresować

artykuł
#61764Data dodania: 27.10.2011
Kontrola procesu reaktywnego rozpylania magnetronowego – analiza modelu — Control of reactive magnetron sputtering – model analysis / Andrzej BRUDNIK // Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania (Warszawa) ; ISSN 0033-2089. — Tytuł poprz.: Przegląd Elektroniki. — 2011 — R. 52 nr 8, s. 72–74. — Bibliogr. s. 74, Streszcz., Summ. — IX Konferencja Techniki Próżni i Workshop on Field Emission from Carbonaceous Materials : Cedzyna, 6–9 czerwca 2011
SzczegółyLink
artykuł
#15910Data dodania: 23.3.2004
Metody sterowania procesami reaktywnego jonowego rozpylania — Process control methods for reactive ion sputtering / Edward LEJA, Andrzej Stec // Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania (Warszawa) ; ISSN 0033-2089. — Tytuł poprz.: Przegląd Elektroniki. — 2003 — R. 44 nr 11, s. 12–15. — Bibliogr. s. 15, Streszcz., Summ. — TJ 2003 : VIII ogólnopolskie seminarium Techniki Jonowe : Szklarska Poręba 12–14.03.2003 r.
SzczegółyLink