Szczegóły publikacji

Opis bibliograficzny

Warstwy a-C:N:H na polimerach osadzane w układzie PE CVD — a-C:N:H layers deposited in PE CVD system on polymers / Stanisława JONAS, Anna MAŁEK, Jadwiga KONEFAŁ, Piotr BOSZKOWICZ // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2010 — R. 31 nr 4, s. 997–1001. — Bibliogr. s. 1001

Autorzy (4)

Dane bibliometryczne

ID BaDAP54443
Data dodania do BaDAP2010-11-05
Rok publikacji2010
Typ publikacjiartykuł w czasopiśmie
Otwarty dostęptak
Czasopismo/seriaIM Inżynieria Materiałowa = Materials Engineering

Abstract

The paper demonstrates that polymer surface may be modified by means of carbon nitride layers (a-C:N:H) formed by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition method. The layers were deposited from CH4/N2/Ar plasma generated by radio-frequency waves (13.56 MHz) and microwaves (2.45 GHz). A series of experiments enabled determination of technological parameters appropriate to the deposit well-adhering and high quality layers on PC, Plexi and PET surface. The obtained layers were subject to structural and chemical composition studies employing energy dispersive X-ray spectroscopy (EDS) and Fourier transform infrared spectroscopy (FT IR) techniques. It was established that roughness parameters of the samples with layers were visibly lower than the parameters characterizing the surface after pre- treating with Ar plasma and remained on the same level or were slightly lower than those for raw polymer surfaces.

Streszczenie

Powierzchnia polimerów może być modyfikowana za pomocą warstw węglowo azotowych (a-C:N:H) otrzymanych metodą chemicznego osadzania z fazy gazowej wspomaganej plazmowo. Warstwy były osadzane z plazmy CH4/N2/Ar generowanej falami o częstotliwości radiowej (13,56 MHz, 300 W) i mikrofalami (2,45 GHz, 2 kW). Serie eksperymentów umożliwiły wyznaczenie technologicznych parametrów procesu prowadzącego do osadzenia warstw wysokiej jakości, dobrze przyczepnych do podłoża PC, Plexi i PET. Uzyskane warstwy były przedmiotem badań strukturalnych oraz składu chemicznego, wykonanych technikami EDS i FT IR. Ustalono, że parametry chropowatości próbek z warstwami były znacznie niższe niż parametry charakteryzujące powierzchnie po trawieniu w plazmie Ar i pozostawały na tym samym poziomie lub były nieznacznie niższe niż te dla surowych powierzchni polimerowych.

Publikacje, które mogą Cię zainteresować

artykuł
#42460Data dodania: 8.1.2009
Gradientowe warstwy $a-SiN_{x}:H$ osadzane plazmochemicznie w układzie Rf CVD — Gradient $a-SiN_{x}:H$ layers plasma chemically deposited in RF CVD system / Maria JURZECKA-SZYMACHA, Stanisława KLUSKA, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2008 — R. 29 nr 6, s. 768–771. — Bibliogr. s. 771, Streszcz., Abstr. — INPO2008 : Inżynieria Powierzchni = Surface Engineering : Wisła–Jawornik, 2–5.XII.2008 / pod red. Leopolda Jeziorskiego, Zygmunta Nitkiewicza, Józefa Jasińskiego. — Katowice : Wydawnictwo SIGMA-NOT, 2008
artykuł
#42455Data dodania: 8.1.2009
Kinetyka wzrostu warstw $a-C:N:H$ w układzie RF CVD — The kinetics of $a-C:N:H$ layers growth in RF CVD system / Anna Kaczmarczyk, Karol KYZIOŁ, Katarzyna TKACZ-ŚMIECH, Stanisława JONAS // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2008 — R. 29 nr 6, s. 745–748. — Bibliogr. s. 748, Streszcz., Abstr. — INPO2008 : Inżynieria Powierzchni = Surface Engineering : Wisła–Jawornik, 2–5.XII.2008 / pod red. Leopolda Jeziorskiego, Zygmunta Nitkiewicza, Józefa Jasińskiego. — Katowice : Wydawnictwo SIGMA-NOT, 2008