Szczegóły publikacji

Opis bibliograficzny

Quantification and minimization of disorder caused by focused electron beam induced deposition of cobalt on graphene / J. M. Michalik, S. Roddaro, L. Casado, M. R. Ibarra, J. M. De Teresa // Microelectronic Engineering ; ISSN 0167-9317. — 2011 — vol. 88 iss. 8, s. 2063–2065. — Bibliogr. s. 2065, Abstr. — Publikacja dostępna online od: 2010-12-07. — J. M. Michalik - afiliacja: Universidad de Zaragoza, Spain. — 36th international conference on Micro- and Nano-Engineering (MNE) : 19–22 September 2010 : Genoa, Italy

Autorzy (5)

  • Michalik Jan Marek
  • Roddaro Stefano
  • Casado Laura
  • Ibarra Manuel Ricardo
  • de Teresa José María

Słowa kluczowe

grapheneRaman spectroscopydisorderelectron beam induced depositioncontamination

Dane bibliometryczne

ID BaDAP96996
Data dodania do BaDAP2016-03-30
Tekst źródłowyURL
DOI10.1016/j.mee.2010.12.002
Rok publikacji2011
Typ publikacjireferat w czasopiśmie
Otwarty dostęptak
Czasopismo/seriaMicroelectronic Engineering

Abstract

Graphene has attracted a lot of attention due to its unique transport properties, including applications in Spintronics. Therefore, one of the key issues is the investigation of the spin polarized transport phenomena, which requires the use of magnetic contacts for electrical measurements. Here we present results of the micro-Raman spectroscopy and in situ transport measurements during the electron beam irradiation and electron beam induced deposition of metallic Co on graphene. We aim to understand the effects caused by the Co deposition on the graphene in order to minimize undesired deterioration and induced disorder. Annealing procedures have been also carried out to recover the initial graphene properties. (C) 2010 Elsevier B.V. All rights reserved.

Publikacje, które mogą Cię zainteresować

artykuł
#96991Data dodania: 30.3.2016
Fabrication of cobalt trifluoride ($CoF_{3}$) phase from metallic cobalt by $XeF_{2}$-assisted Focused Electron Beam Induced Processing / J. M. De Teresa, P. Holuj, R. Córdoba, R. Fernández-Pacheco, J. M. Michalik // Microelectronic Engineering ; ISSN 0167-9317. — 2014 — vol. 125, s. 78–82. — Bibliogr. s. 81–82, Abstr. — Publikacja dostępna online od: 2014-01-13. — J. M. Michalik - afiliacja: Universidad de Zaragoza, Hiszpania. — E-MRS 2013 Fall Meeting : 16–20 September 2013 : Warsaw
artykuł
#118443Data dodania: 20.12.2018
Gas-assisted silver deposition with a focused electron beam / Luisa Berger, Katarzyna Madajska, Iwona B. Szymańska, Katja Höflich, Mikhail N. Polyakov, Jakub JURCZYK, Carlos Guerra-Nuñez, Ivo Utke // Beilstein Journal of Nanotechnology [Dokument elektroniczny]. — Czasopismo elektroniczne ; ISSN 2190-4286. — 2018 — vol. 9 iss. 1, s. 224–232. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Bibliogr. s. 231–232, Abstr. — Publikacja dostępna online od: 2018-01-19. — J. Jurczyk – dod. afiliacja: Empa - Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology Laboratory for Mechanics of Materials and Nanostructures, Thun, Switzerland