Szczegóły publikacji

Opis bibliograficzny

Fabrication of cobalt trifluoride ($CoF_{3}$) phase from metallic cobalt by $XeF_{2}$-assisted Focused Electron Beam Induced Processing / J. M. De Teresa, P. Holuj, R. Córdoba, R. Fernández-Pacheco, J. M. Michalik // Microelectronic Engineering ; ISSN 0167-9317. — 2014 — vol. 125, s. 78–82. — Bibliogr. s. 81–82, Abstr. — Publikacja dostępna online od: 2014-01-13. — J. M. Michalik - afiliacja: Universidad de Zaragoza, Hiszpania. — E-MRS 2013 Fall Meeting : 16–20 September 2013 : Warsaw

Autorzy (5)

  • de Teresa José María
  • Hołuj Paulina
  • Córdoba Rosa
  • Fernández-Pacheco Rodrigo
  • Michalik Jan Marek

Słowa kluczowe

cobalt nanostructuresXeF2 processingFocused Electron Beam Induced Processingmagnetic exchange biasEELS Spectroscopy

Dane bibliometryczne

ID BaDAP96991
Data dodania do BaDAP2016-03-30
Tekst źródłowyURL
DOI10.1016/j.mee.2014.01.002
Rok publikacji2014
Typ publikacjireferat w czasopiśmie
Otwarty dostęptak
Czasopismo/seriaMicroelectronic Engineering

Abstract

Focused Electron Beam Induced Processing (FEBIP) using XeF2 gas injection is routinely applied in circuit editing, mask repair and nanolithography to etch semiconducting or metallic materials. Here, we report the use of XeF2-assisted FEBIP for a novel application: the formation of a metal fluoride from a metal layer in the area scanned by the electron beam. Our study focuses on the reaction of cobalt into cobalt trifluoride (CoF3). The objective of the present study is to locally obtain the CoF3 compound out of a cobalt nanostructure. The CoF3 phase has been reported in the past to show antiferromagnetic properties at room temperature, thus ferromagnetic/antiferromagnetic (Co/CoF3) bilayer structures with magnetic exchange bias phenomena could be engineered at the micro/nano scale. Electron Energy Loss Spectroscopy studies presented here demonstrate that CoF3 is efficiently obtained out of Co by means of XeF2-assisted FEBIP, opening the route for future Co/CoF3-based devices. (C) 2014 Elsevier B.V. All rights reserved.

Publikacje, które mogą Cię zainteresować

artykuł
#96996Data dodania: 30.3.2016
Quantification and minimization of disorder caused by focused electron beam induced deposition of cobalt on graphene / J. M. Michalik, S. Roddaro, L. Casado, M. R. Ibarra, J. M. De Teresa // Microelectronic Engineering ; ISSN 0167-9317. — 2011 — vol. 88 iss. 8, s. 2063–2065. — Bibliogr. s. 2065, Abstr. — Publikacja dostępna online od: 2010-12-07. — J. M. Michalik - afiliacja: Universidad de Zaragoza, Spain. — 36th international conference on Micro- and Nano-Engineering (MNE) : 19–22 September 2010 : Genoa, Italy
artykuł
#118443Data dodania: 20.12.2018
Gas-assisted silver deposition with a focused electron beam / Luisa Berger, Katarzyna Madajska, Iwona B. Szymańska, Katja Höflich, Mikhail N. Polyakov, Jakub JURCZYK, Carlos Guerra-Nuñez, Ivo Utke // Beilstein Journal of Nanotechnology [Dokument elektroniczny]. — Czasopismo elektroniczne ; ISSN 2190-4286. — 2018 — vol. 9 iss. 1, s. 224–232. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Bibliogr. s. 231–232, Abstr. — Publikacja dostępna online od: 2018-01-19. — J. Jurczyk – dod. afiliacja: Empa - Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology Laboratory for Mechanics of Materials and Nanostructures, Thun, Switzerland