Szczegóły publikacji
Opis bibliograficzny
Methods of nano-crystallization of thin silicon films / Michał KOŁODZIEJ, Tomasz KOŁODZIEJ, Andrzej KOŁODZIEJ // W: PVSC 42 [Dokument elektroniczny] : 42nd IEEE Photovoltaic Specialist Conference : 14–19 June 2015, New Orleans, USA / IEEE. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — [Piscataway : IEEE], cop. 2015. — e-ISBN: 978-1-4799-7944-8. — S. [1–4]. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Tryb dostępu: http://ieeexplore.ieee.org.ieee-xplore.wbg2.bg.agh.edu.pl/sta... [2016-01-08]. — Bibliogr. s. [4], Abstr.
Autorzy (3)
Słowa kluczowe
Dane bibliometryczne
| ID BaDAP | 95134 |
|---|---|
| Data dodania do BaDAP | 2016-01-08 |
| DOI | 10.1109/PVSC.2015.7356309 |
| Rok publikacji | 2015 |
| Typ publikacji | materiały konferencyjne (aut.) |
| Otwarty dostęp |  |
| Konferencja | 2015 IEEE 42nd Photovoltaic Specialist Conference |
Abstract
In the paper the authors are analyzing differences in the nature of crystallization between: the nano-crystallization during deposition in multilayer RF PECVD process, in which hydrogen concentration and other parameters were changing over time, and crystallization of the same samples during temperature annealing in the range 200???1000??C. Observed behavior differs from columnar crystallization of ??c-Si:H films deposited in homogeneous process. The analysis is carried out with respect on application of the films to solar structures.
