Szczegóły publikacji
Opis bibliograficzny
Stanowisko do nanoszenia warstw (TiAl)N na węgliki spiekane — Equipment for deposition of the (TiAl)N coatings on sintered carbide / Konstanty MARSZAŁEK, Ryszard MANIA // Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania (Warszawa) ; ISSN 0033-2089. — Tytuł poprz.: Przegląd Elektroniki. — 2011 — R. 52 nr 8, s. 70–72. — Bibliogr. s. 72, Streszcz., Summ. — IX Konferencja Techniki Próżni i Workshop on Field Emission from Carbonaceous Materials : Cedzyna, 6–9 czerwca 2011
Autorzy (2)
Dane bibliometryczne
| ID BaDAP | 61763 |
|---|---|
| Data dodania do BaDAP | 2011-10-27 |
| Rok publikacji | 2011 |
| Typ publikacji | referat w czasopiśmie |
| Otwarty dostęp |  |
| Czasopismo/seria | Elektronika : Konstrukcje, Technologie, Zastosowania |
Abstract
Design of the technological equipment for deposition of the (TiAl)N coatings on sintered carbide is presented. The standard vacuum evaporator NA501A produced by TEPRO Koszalin company was adopted. The covered parts were heads of drills for deep boring with diameter of φ = 22.5 mm. Pulsed magnetron sputtering MF (Medium Frequency) with WMK50 magnetron gun was used as deposition technology. Deposition was provided with single magnetron gun with sintered TiAl target. Target was produced by high temperature pressing of micropowder after SHS process. Deposition was carried out at high temperature of substrate (about 900K). For heating the substrates high temperatures table was made from ceramic materials based on silicon carbide. Scanning Electron Microscopy for morphology measurement and EDS for Chemical analysis were used. Adhesion of the coating was measured by scratch tests.
Streszczenie
W pracy przedstawiono budowę stanowiska technologicznego przeznaczonego do nanoszenia warstw (TiAl)N na węgliki spiekane. Do budowy stanowiska wykorzystano standardowe urządzenie próżniowe produkcji TEPRO Koszalin NA501A. Elementem z węglików spiekanych były wymienne końcówki wierteł do głębokiego wiercenia φ = 22,50. Zastosowano technologię impulsowego rozpylania magnetronowego MF (Medium Frequency) z wyrzutnią typu WMK50. Rozpylanie prowadzono z pojedynczej wyrzutni z tarczą wykonaną ze spieku TiAl. Spiek ten otrzymano stosując proces prasowania na gorąco mikroproszku otrzymanego w wyniku procesu SHS (Self-propagation High-temperature Synthesis). Proces nanoszenia prowadzono na podłoża utrzymywane w temperaturze ok. 900 K. Do uzyskania niezbędnej wartości temperatury podłoży skonstruowano stolik z elementem grzejnym wykonanym z materiałów ceramicznych na bazie węglika krzemu. Przeprowadzono obserwacje morfologii warstwy mikroskopem skaningowym oraz wykonano analizy składu chemicznego warstw. W celu oceny jakości pokrycia przeprowadzono badania adhezji.