Szczegóły publikacji
Opis bibliograficzny
Parallel genetic algorithm finding optimal initial mesh for three dimensional self-adaptive \emph hp finite element method — Równoległy algorytm genetyczny znajdujący optymalne siatki początkowe dla trójwymiarowej \emph hp adaptacyjnej metody elementów skończonych / Anna Paszyńska, Maciej PASZYŃSKI // Computer Methods in Materials Science : quarterly / Akademia Górniczo-Hutnicza ; ISSN 1641-8581. — Tytuł poprz.: Informatyka w Technologii Materiałów. — 2011 — vol. 11 no. 1, s. 34–40. — Bibliogr. s. 40, Abstr., Streszcz.
Autorzy (2)
- Paszyńska Anna
- AGHPaszyński Maciej
Dane bibliometryczne
| ID BaDAP | 56767 |
|---|---|
| Data dodania do BaDAP | 2011-02-07 |
| Rok publikacji | 2011 |
| Typ publikacji | artykuł w czasopiśmie |
| Otwarty dostęp |  |
| Czasopismo/seria | Computer Methods in Materials Science |
Streszczenie
W artykule tym przedstawiono wersję równoległą algorytmu genetycznego bazującego na hierarchicznym chromosomie (AGBHC) służącego do znajdowania optymalnych siatek począt-kowych dla hp adaptacyjnej metody elementów skończonych (hp-MES). Zaproponowany algorytm AGBHC rozwiązuje problem r adaptacji. Jest to problem globalnej optymalizacji polegający na znalezieniu optymalnej siatki początkowej dla algorytmu automa-tycznej hp adaptacji. Poszukiwana siatka początkowa powinna pasować do przyjętych stałych materiałowych oraz do osobliwości rozwiązania. W efekcie algorytm automatycznej hp adaptacji uruchomiony na takiej optymalnej siatce początkowej powinien dostarczyć eksponencjalną zbieżność dokładności rozwiązania względem rozmiaru siatki obliczeniowej. Algorytm równoległy testowany jest na problemie nanolitografii poprzez wyciskanie i naświetlanie, modelowanym z pomocą liniowej sprężystości ze współczynnikiem rozszerzalności cieplnej.
Abstract
In this paper we investigate the parallel version of the hierarchical chromosome based genetic algorithm (HCBGA) for finding the optimal initial mesh for self-adaptive hp-Finite Element Method (hp-FEM). The HCBGA algorithm solves the global optimization problem of r refinements in order to provide optimal starting mesh for the hp-FEM that will fit material data and singularities, and will result in the exponential convergence of the hp-FEM. The parallel algorithm is tested on the damaged Step-and-Flash Imprint Lithography problem, modeled by linear elasticity with thermal expansion ':, coefficient.
