Szczegóły publikacji
Opis bibliograficzny
Warstwy węglowe $(a-C:H)$ i uazotowione warstwy węglowe $(a-C:N:H)$ na poliwęglanie — Carbon layers $(a-C:H)$ and nitrogenated carbon layers $(a-C:N:H)$ on polycarbon / Stanisława JONAS, Ryszard Nowak, Marcin KOT, Edward WALASEK, Grażyna KRUPA // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2005 — R. 26 nr 5, s. 742–744. — Bibliogr. s. 744, Streszcz., Abstr. — „Obróbka powierzchniowa'2005” = “Surface treatment'2005” : VI ogólnopolska konferencja naukowa : Częstochowa–Kule, 20–23 września 2005 / pod red.: Leopolda Jeziorskiego, Zygmunta Nitkiewicza, Józefa Jasińskiego ; Polskie Towarzystwo Materiałoznawcze. — Warszawa : Wydawnictwo Czasopism i Książek Technicznych SIGMA-NOT Spółka z o. o., 2005. — Na okł. dodatkowo tyt.: 55 lat Wydziału Inżynierii Procesowej, Materiałowej i Fizyki Stosowanej Politechniki Częstochowskiej. — Opis częśc. wg okł.
Autorzy (5)
Dane bibliometryczne
| ID BaDAP | 25725 |
|---|---|
| Data dodania do BaDAP | 2006-01-26 |
| Rok publikacji | 2005 |
| Typ publikacji | referat w czasopiśmie |
| Otwarty dostęp |  |
| Czasopismo/seria | IM Inżynieria Materiałowa = Materials Engineering |
Abstract
Amorphous hydrogenated and nitrogenated carbon (a-CH) and (a-C:N:H) layers on metallic, ceramic and polymeric substrates are interesting materials for electronic, optoelectronic, mechanical industry and medicine. Their structure and properties can be modified through the change of deposition process parameters. The work contains the resuItants of investigations on obtaining this type of layers on (PC) substrates by using plasma enhanced chemical vapour deposition (RFCVD) method. The layers were deposited at the temperature not higher 30 degre C, using methane, hydrogen, argon and nitrogen which were provided in different ratio to reactor. It was defined the optimum process parameters in which can be obtained the good adhesive layers to the substrate. The investigation of chemical composition, structure and nanostructure of these layers were carried out by using FTIR spectroscopy, scanning microscopy (SEM) and atomic force microscopy (AFM). The tribological properties were investigated by tribometer in a ball-on-disk configuration.
Streszczenie
Amorficzne, uwodornione i uazatowione warstwy węglowe (a-C:H) i (aC:N:H) na podłożach metalicznych, ceramicznych i polimerowych sit interesującym materiałem dla elektroniki, optoelektroniki, przemysłu maszynowego i medycyny. Ich strukturę oraz właściwości elektryczne, optyczne i mechaniczne można regulować poprzez zmianę parametrów procesu osadzania Praca zawiera wyniki badań nad otrzymywaniem tego typu warstw na podłożu polimerowym (PC) metodą chemicznego osadzania z fazy gazowej z użyciem plazmy (RFCVD). Warstwy otrzymywano w temperaturze nie przekraczającej 30 stopni C przy użyciu reakcyjnych mieszanin gazowych zawierających w swym składzie metan, wodór, argon i azot podawanych do reaktora w różnych proporcjach. Określono optymalne parametry procesu, w którym otrzymuje się warstwy dobrze przyczepne do podłoża. Skład chemiczny, strukturę i nanostrukturę warstw badano przy użyciu metod: fourierowskiej spektroskopii w podczerwieni (FTIR), mikroskopu skaningowego (SEM) oraz mikroskopu sił atomowych (AFM). Wykonano również badania właściwości tribologicznych tych warstw.
