Szczegóły publikacji
Opis bibliograficzny
The role of the oxidizing Co-reactant in Pt growth by atomic layer deposition using $MeCpPtMe_3$ and $O_2/O_3/O_2$-plasma / Jin Li, S. KLEJNA, M. Minjauw, J. Dendooven, C. Detavernier // W: ALD/ALE [Dokument elektroniczny] : AVS 24th international conference on Atomic Layer Deposition : 11th international Atomic Layer Etching workshop : August 4-7, 2024, Helsinki, Finland : book of abstracts. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — [USA : AVS], [2024]. — S. 117–118. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Tryb dostępu: https://ald2024.avs.org/wp-content/uploads/2024/04/Abstract-B... [2024-10-07]. — Bibliogr. s. 118
Autorzy (5)
- Li Jin
- AGHKlejna Sylwia
- Minjauw Matthias M.
- Dendooven Jolien
- Detavernier Christophe
Słowa kluczowe
Dane bibliometryczne
| ID BaDAP | 155826 |
|---|---|
| Data dodania do BaDAP | 2024-10-31 |
| Rok publikacji | 2024 |
| Typ publikacji | materiały konferencyjne (aut.) |
| Otwarty dostęp |  |
