Szczegóły publikacji

Opis bibliograficzny

Improving EBSD precision by orientation refinement with full pattern matching / A. WINKELMANN, B. M. Jablon, V. S. Tong, C. Trager-Cowan, K. P. Mingard // Journal of Microscopy ; ISSN 0022-2720. — 2020 — vol. 277 iss. 2, s. 79–92. — Bibliogr. s. 91–92, Summ. — Publikacja dostępna online od: 2020-01-30. — A. Winkelmann - dod afiliacja: University of Strathclyde, Glasgow, U. K.

Autorzy (5)

Słowa kluczowe

Kikuchi patternsscanning electron microscopyorientation mappingelectron backscatter diffraction

Dane bibliometryczne

ID BaDAP128046
Data dodania do BaDAP2020-03-26
Tekst źródłowyURL
DOI10.1111/jmi.12870
Rok publikacji2020
Typ publikacjiartykuł w czasopiśmie
Otwarty dostęptak
Czasopismo/seriaJournal of Microscopy

Abstract

We present a comparison of the precision of different approaches for orientation imaging using electron backscatter diffraction (EBSD) in the scanning electron microscope. We have used EBSD to image the internal structure of WC grains, which contain features due to dislocations and subgrains. We compare the conventional, Hough-transform based orientation results from the EBSD system software with results of a high-precision orientation refinement using simulated pattern matching at the full available detector resolution of 640 × 480 pixels. Electron channelling contrast imaging (ECCI) is used to verify the correspondence of qualitative ECCI features with the quantitative orientation data from pattern matching. For the investigated sample, this leads to an estimated pattern matching sensitivity of about 0.5 mrad (0.03°) and a spatial feature resolution of about 100 nm. In order to investigate the alternative approach of postprocessing noisy orientation data, we analyse the effects of two different types of orientation filters. Using reference features in the high-precision pattern matching results for comparison, we find that denoising of orientation data can reduce the spatial resolution, and can lead to the creation of orientation artefacts for crystallographic features near the spatial and orientational resolution limits of EBSD. © 2020 The Authors Journal of Microscopy © 2020 Royal Microscopical Society

Publikacje, które mogą Cię zainteresować

artykuł
#129185Data dodania: 29.6.2020
Refined calibration model for improving the orientation precision of electron backscatter diffraction maps / Aimo WINKELMANN, Gert Nolze, Grzegorz CIOS, Tomasz TOKARSKI, Piotr BAŁA // Materials [Dokument elektroniczny]. — Czasopismo elektroniczne ; ISSN 1996-1944. — 2020 — vol. 13 iss. 12 art. no. 2816, s. 1–20. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Bibliogr. s. 17–20, Abstr. — Publikacja dostępna online od: 2020-06-23. — A. Winkelmann – dod. afiliacja: University of Strathclyde, Glasgow. — P. Bała – dod. afiliacja: ACMiN
fragment książki
#162351Data dodania: 12.9.2025
Translational symmetry - a way to efficient EBSD diffraction pattern analysis / K. WÓJCIAK, T. TOKARSKI, G. CIOS, A. WINKELMANN, G. Nolze // W: CAC 2025 [Dokument elektroniczny] : XXV Conference on Applied Crystallography : Wisła, Poland, 7-10 September 2025 : abstract book / University of Silesia. Institute of Material Engineering. — Wersja do Windows. — Dane tekstowe. — [Katowice] : US, [2025]. — S. [186-187]. — Wymagania systemowe: Adobe Reader. — Tryb dostępu: https://cac2025.us.edu.pl/wp-content/uploads/2025/09/CAC25_Bo... [2025-09-11]. — Bibliogr. s. [187]