Szczegóły publikacji

Opis bibliograficzny

Cienkie warstwy $LaCoO_{3}$ na bazie perowskitu wykonane metodą ablacji laserowej — Thin films based on perovskite $LaCoO_{3}$ deposited by pulsed laser deposition / Jarosław SZELC, Agnieszka KOPIA, Łukasz CIENIEK // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2013 — R. 34 nr 6, s. 903–906. — Bibliogr. s. 906, Streszcz., Abstr.

Autorzy (3)

Słowa kluczowe

EN: laser ablationperovskitesPLDthin filmsLaCoO3
PL: cienkie warstwyLaCoO3ablacja laserowaPLDperowskity

Dane bibliometryczne

ID BaDAP79455
Data dodania do BaDAP2014-02-04
Rok publikacji2013
Typ publikacjiartykuł w czasopiśmie
Otwarty dostęptak
Czasopismo/seriaIM Inżynieria Materiałowa = Materials Engineering

Streszczenie

W pracy przedstawiono wyniki badan wpływu parametrów procesu ablacji laserowej (gęstość energii wiązki, długość fali promieniowania laserowego, temperatura podłoża) na mikrostrukturę wytworzonych cienkich warstw. Mikrostrukturę otrzymanych warstw analizowano za pomocą skaningowego mikroskopu elektronowego (SEM), mikroskopu sił atomowych (AFM) oraz dyfrakcyjnej, rentgenowskiej analizy fazowej (XRD). Analiza rentgenowska wykazała brak zmian składu fazowego w tarczy przed i po procesie ablacji laserowej. W warstwach wytworzonych w temperaturze T = 600°C uzyskano uprzywilejowany kierunek wzrostu (110). Wyznaczona średnia wielkość krystalitów dla warstw LaCoO3-KrF-600 wynosiła 30 nm, a dla warstw LaCoO3-Nd-Yag-600 wynosiła 20 nm. Ponadto na stopień rozwinięcia powierzchni oraz brak wad powierzchniowych duży wpływ ma rodzaj zastosowanego lasera. Warstwy wolne od kropel i o rozwiniętej powierzchni otrzymano z zastosowaniem lasera ekscymerowego.

Abstract

This paper presents the results of the influence of laser ablation process parameters (energy density of the beam, the wavelength of the laser radiation, substrate temperature). The microstructure of the thin films were analyzed by scanning electron microscopy (SEM) with EDS analysis, atomic force microscopy (AfM), and x-ray phase analysis (XRD). X-ray analysis showed no change in the phase composition of the target after the laser ablation process. The layers deposited at T = 600°C was obtained with preferential direction of growth (110). The crystals size of LaCoO3-KrF-600 thin films was 30 nm and for LaCoO3-Nd-Yag-600 thin films was 20 nm. In addition on the extend of surface development and defects on the surface influence the type of the laser. The thin films free of the drops and with good development surface was obtained using excimer laser.

Publikacje, które mogą Cię zainteresować

artykuł
#82200Data dodania: 21.6.2014
Structural characterization and properties of $M-WO_{3} (M = Au,Pt)$ thin films prepared by pulsed laser deposition — Analiza struktury i właściwości cienkich warst $M-Wo_{3} (M = Au, Pt)$ wytwarzanych techniką ablacji laserowej / Agnieszka KOPIA, Wojciech MAZIARZ // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2014 — R. 35 nr 2, s. 154–157. — Bibliogr. s. 157, Streszcz., Abstr.
artykuł
#79458Data dodania: 4.2.2014
Characterization of lanthanum lutetium oxide thin films grown by pulsed laser deposition — Badania cienkich warstw $LaLuO_{3}$ wytwarzanych metodą ablacji laserowej / Agnieszka KOPIA, Christine Leroux, Kazimierz KOWALSKI, Madjid Arab, Frederic Guinneton, Jean Raymond Gavarri // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2013 — R. 34 nr 6, s. 720–723. — Bibliogr. s. 723, Streszcz., Abstr.