Szczegóły publikacji

Opis bibliograficzny

Characterization of ${Al-Mg}$ thin film deposited using pulsed laser deposition technique — Charakterystyka cienkich warstw ${Al-Mg}$ otrzymywanych za pomocą techniki osadzania laserem impulsowym / Agnieszka RADZISZEWSKA, Tomasz MOSKALEWICZ // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2013 — R. 34 nr 3, s. 192–195. — Bibliogr. s. 194–195, Streszcz., Abstr.

Autorzy (2)

Słowa kluczowe

EN: chemical compositionmicrostructureAl-Mg alloythin filmsphase compositionPLD
PL: PLDstop Al-MGcienkie warstwyskład fazowyskład chemicznymikrostruktura

Dane bibliometryczne

ID BaDAP74136
Data dodania do BaDAP2013-06-21
Rok publikacji2013
Typ publikacjiartykuł w czasopiśmie
Otwarty dostęptak
Czasopismo/seriaIM Inżynieria Materiałowa = Materials Engineering

Abstract

This paper presents the morphology, microstructure (observed by SEM, TEM) and chemical composition (EDS) of the thin Al-Mg film deposited using pulsed laser deposition (PLD) technique at room substrate tempera- ture, namely Ts =25°C, laser wavelength λ= 1064 nm and laser fluence q = 13.8 J/cm2. The scanning electron microscopy observations revealed the appearance of many dropfets with diameters 1÷15 um on film. Whereas, the EDS analysis showed incongruent transfer of the chemical composition of the target onto the thin film. The thickness of thin film was equal to 1 um. This thin film was characterized by nanocrystalline microstructure. However, there also appeared columnar Al crystals and characteristic “V shaped” crystals. It was found that the following phases were appeared in different areas of the thin layers: Al3OMg23, Al65Mg35 and Al.

Streszczenie

W pracy przedstawiono wyniki badań mikrostruktury cienkich warstw Al-Mg otrzymanych przez osadzanie laserem impulsowym (PLD) za pomocą skaningowej i transmisyjnej mikroskopii elektronowej (SEM, TEM). Podczas nakładania warstw stosowano pokojową temperaturę podłoża Ts = 25°C, długość promieniowania laserowego λ = 1064 nm oraz gęstość energii wiązki lasera q = 13,8 J/cm2. Skaningowa mikroskopia elektronowa ujawniła występowanie na powierzchni warstw wielu kropli o średnicy ok. 1÷15 um. Natomiast technika EDS pozwoliła stwierdzić brak stechiometrycznego przenoszenia składu chemicznego tarczy do warstw. Grubość cienkiej warstwy wynosiła ok. 1 um. Warstwa charakteryzowała się nanokrystaliczną mikrostrukturą. Widoczne były również kolumnowe kryształy Al oraz charakterystyczna mikrostruktura występująca w cienkich warstwach, czyli kryształy w kształcie litery „V”. W różnych obszarach cienkich warstw obserwowano występowanie następujących faz: Al30Mg23, Al65Mg35 i czystego Al.

Publikacje, które mogą Cię zainteresować

fragment książki
#74048Data dodania: 27.6.2013
Characterization of ${Al-Mg}$ thin films obtained using pulsed laser deposition technique : [abstract] / RADZISZEWSKA Agnieszka, MOSKALEWICZ Tomasz // W: AMT'2013 : Advanced Materials and Technologies : XX physical metallurgy and materials science conference : 9–12 June 2013, Kudowa Zdrój / Częstochowa University of Technology. Institute of Materials Engineering. — [Częstochowa : University of Technology], [2013]. — Opis częśc. wg okł. — S. 43
artykuł
#79458Data dodania: 4.2.2014
Characterization of lanthanum lutetium oxide thin films grown by pulsed laser deposition — Badania cienkich warstw $LaLuO_{3}$ wytwarzanych metodą ablacji laserowej / Agnieszka KOPIA, Christine Leroux, Kazimierz KOWALSKI, Madjid Arab, Frederic Guinneton, Jean Raymond Gavarri // Inżynieria Materiałowa ; ISSN 0208-6247. — 2013 — R. 34 nr 6, s. 720–723. — Bibliogr. s. 723, Streszcz., Abstr.