Szczegóły publikacji

Opis bibliograficzny

Cienkie warstwy Ti(C,N,O) wytwarzane techniką PLD — Ti(C,N,O) thin films deposited by PLD technique / Sławomir KĄC // Hutnik Wiadomości Hutnicze : czasopismo naukowo-techniczne poświęcone zagadnieniom hutnictwa ; ISSN 1230-3534. — 2010 — R. 77 nr 4 Dzień Hutnika 2010, s. 171–175. — Bibliogr. s. 175

Autor

Dane bibliometryczne

ID BaDAP51648
Data dodania do BaDAP2010-05-10
Rok publikacji2010
Typ publikacjiartykuł w czasopiśmie
Otwarty dostęptak
Czasopismo/seriaHutnik, Wiadomości Hutnicze

Streszczenie

W pracy przedstawiono wyniki badań biozgodnych cienkich warstw Ti(C,N,O) wytwarzanych techniką PLD (Pulsed Laser Deposition) na podłożu polimerowym (poliuretan). Badano morfologię powierzchni wytworzonych warstw, ich strukturę oraz skład chemiczny i fazowy. Badano chropowatość powierzchni oraz grubość nałożonych powłok. Mierzono również współczynnik tarcia otrzymanych cienkich warstw oraz adhezję do podłoża. W skład osadzonych cienkich warstw wchodzi głównie TiO2, TiC, jak również TiO0.34N0.66. Wytworzone cienkie warstwy posiadają grubość od 5 do ok. 15 nm. Wielkość krystalitów wynosi od 3 nm do 7 nm, natomiast chropowatość ok. 1,5 nm. Współczynnik tarcia cienkich warstw Ti(C,N,O) jest mniejszy niż dla poliuretanu i wynosi ok. 0,1.

Abstract

The paper deals with the characterization of Ti(C,N,O) biocompatible thin films on polymer substrate (polyurethane). The layers weredeposited using Pulsed Laser Deposition (PLD) technique. The surface morphology, structure, chemical and phase composition were analyzed. The roughness of the surface, thickness of the thin films and friction coefficient were measured also. The phase composition of thin films generally consist of TiO2, TiC, and TiO0.34N0.66 phases. The thickness of deposited films can be varied between 5 and 15 nm. The crystallite size is estimated from 3 nm to 7 nm, and the roughness is about 1.5 nm. The friction coefficient for Ti(C,N,O) thin films is lower than for polyurethane and averages about 0.1.

Publikacje, które mogą Cię zainteresować

fragment książki
#121752Data dodania: 6.6.2019
Cienkie warstwy Al-Mg osadzane techniką PLD — [Al-Mg thin films deposited by the PLD technique] / A. RADZISZEWSKA // W: XXIV seminarium Polskiego Towarzystwa Materiałoznawczego : Jachranka, 12–15 maja 2019 : plan seminarium / Wydział Inżynierii Materialowej. Politechnika Warszawska, Polskie Towarzystwo Materiałoznawcze. — [Warszawa : Wydział Inżynierii Materiałowej Politechniki Warszawskiej], [2019]. — S. 5. — W publikacji błędne podano inicjał imienia autorki: E. Radziszewska. — Afiliacja autorki: Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie
książka
#112786Data dodania: 13.3.2018
Cienkie warstwy tlenku bizmutu wytwarzane techniką PLD - topografia powierzchni, morfologia, mikrostruktura i własności fizykochemiczne — Bismuth oxide thin films deposited by the PLD technique - surface topography, morphology, microstructure and physicochemical properties / Sławomir KĄC. — Kraków : Wydawnictwo Naukowe AKAPIT, 2017. — 160 s. — (Seria Monografie ; nr 8/2017). — Bibliogr. s. 151–160, Streszcz., Summ. — ISBN: 978-83-63663-89-6