Szczegóły publikacji
Opis bibliograficzny
Stop $Cu-Mg-Te$ do zastosowań zwłaszcza w przemyśle elektrycznym i elektrotechnicznym — [$Cu-Mg-Te$ alloy for use, especially in the electrical and electrotechnical industries] / Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Metali Nieżelaznych, Gliwice; Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie; Politechnika Rzeszowska im. Ignacego Łukasiewicza, Rzeszów; TELE-FONIKA Kable Spółka Akcyjna, Myślenice ; wynalazca: Paweł KWAŚNIEWSKI, Tadeusz KNYCH, Beata SMYRAK, Andrzej MAMALA, Grzegorz KIESIEWICZ, Artur KAWECKI, Wojciech ŚCIĘŻOR, Szymon KORDASZEWSKI, Krystian FRANCZAK, Michał SADZIKOWSKI, Piotr MICEK, Wojciech Głuchowski, Zbigniew Rdzawski, Marcin MALETA, Marek Łagoda, Justyna Domagała-Dubiel, Marcin Drajewicz, Marek Góral, Barbara Kościelniak, Tadeusz Kubaszek, Kamil Ochał, Jakub Siemiński, Jacek Kuźma, Ryszard Szydłak, Marek Bierówka. — Int.Cl.: C22C 9/00(2006.01). — Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej. — Opis zgłoszeniowy wynalazku ; PL449757A1 ; Opubl. 2026-03-16. — Zgłosz. nr P.449757 z dn. 2024-09-09
Autorzy (25)
- AGHKwaśniewski Paweł
- AGHKnych Tadeusz
- AGHSmyrak Beata
- AGHMamala Andrzej
- AGHKiesiewicz Grzegorz
- AGHKawecki Artur
- AGHŚciężor Wojciech
- AGHKordaszewski Szymon
- AGHFranczak Krystian
- AGHSadzikowski Michał
- AGHMicek Piotr Andrzej
- Głuchowski Wojciech
- Rdzawski Zbigniew
- Maleta Marcin
- Łagoda Marek
- Domagała-Dubiel Justyna
- Drajewicz Marcin
- Góral Marek
- Kościelniak Barbara
- Kubaszek Tadeusz
- Ochał Kamil
- Siemiński Jakub
- Kuźma Jacek
- Szydłak Ryszard
- Bierówka Marek
Dane bibliometryczne
| ID BaDAP | 167185 |
|---|---|
| Data dodania do BaDAP | 2026-05-29 |
| Tekst źródłowy | URL |
| Rok publikacji | 2026 |
| Typ publikacji | zgłoszenie patentowe |
| Otwarty dostęp |
Streszczenie
Przedmiotem zgłoszenia jest stop Cu-Mg-Te, który cechuje się tym, że zawiera 0,02% - 0,035% mas. Mg; 0,001% - 0,01% mas. Te; 0,0001% - 0,0020% mas. Fe; 0,0001% - 0,0025% mas. Ag; 0,0001 – 0,0020% mas. S; przy czym udział S do Ag wynosi od 1:1 do 2:1, zanieczyszczenia wraz z tlenem <0,08% mas., a resztę stanowi Cu.