This research group works on the technology and measurements of fundamental properties of semiconducting thin films, mostly metal oxides for electronic applications.  Sputtering is basic technology. Studies concentrate on characterization of deposited thin films, their optical properties, crystallographic structure  by X-ray diffraction, measurements of resistive-type response as a function of temperature and gas concentration, impedance spectroscopy and many others.

Zespół zajmuje się technologią i pomiarami właściwości cienkich warstw półprzewodników przede wszystkim  tlenków metali dla zastosowań w elektronice.  Dominującą technologią jest rozpylanie jonowe - sputtering. Badania obejmują charakteryzację uzyskanych materiałów, pomiary optyczne, dyfrakcję promieniowania X, pomiary odpowiedzi rezystancyjnej w funkcji temperatury i koncentracji gazu, spektroskopię impedancyjną i wiele innych.

Nowak Piotr, dr

WIEiT-ke Instytut Elektroniki