- Strona główna/
- Lista autorów/
- Kowalski Kazimierz/
- Habilitacja
Kowalski Kazimierz, dr hab. inż., prof. AGH
WIMiIP-kip Katedra Inżynierii Powierzchni i Analiz Materiałów
Wydział Inżynierii Metali i Informatyki Przemysłowej
kkowalsk@agh.edu.pl- Habilitacja
- Zastosowanie metod spektroskopowych XPS i SIMS w badaniach procesów transportu w warstwie wierzchniej materiałów
- Wersja tytułu:
- The use of XPS and SIMS spectroscopy methods in studies of transport processes in surface layer of materials
- Sygn.:
- II 244677 ; II 244676
- Wydział:
- AGH Wydział Inżynierii Metali i Informatyki Przemysłowej
- Data uchwały Rady Wydziału:
- 14.06.2010
- Stopień naukowy:
- dr hab. nauk technicznych
- Dyscyplina:
- inżynieria materiałowa
- Publikacja:
- Słowa kluczowe:
- dyfuzja; dyfuzja po granicach ziaren; segregacja; elektrolit tlenkowy stały; tlenek niobu; spektroskopia rentgenowska fotoelektronowa; spektrometria mas jonów wtórnych